Очень высокочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы (VHF-PECVD)

Когда тонкие пленки готовятся по технологии RF-PECVD, для достижения низкотемпературного осаждения в качестве реакционного газа необходимо использовать разбавленный силан, поэтому скорость осаждения ограничена. Технология VHF-PECVD широко используется в практических приложениях, поскольку плазма, возбуждаемая VHF, имеет более низкую электронную температуру и более высокую плотность, чем плазма, генерируемая обычным радиочастотным излучением [2], что может значительно повысить скорость осаждения пленки.

Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытий на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для нанесения оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, доступен проект под ключ. Свяжитесь с нами сейчас, электронная почта: iks.pvd@foxmail.com