Испарительное осаждение

Испарительное осаждение

Принцип: нагревая целевой материал (твердое состояние) выше точки плавления, он испаряется с образованием газообразных атомов/молекул. Газообразные частицы свободно летают в вакуумной среде и в конечном итоге конденсируются и осаждаются на поверхности низкотемпературной подложки, образуя пленку. Типы сегментов: сопротивление испарению: через резистивную проволоку нагревается целевой материал с низкой температурой плавления (например, алюминий, золото), оборудование простое, но температура нагрева ограничена, подходит для металлической пленки с низкой температурой плавления. Электронно-лучевое испарение: с использованием бомбардировки пучком электронов высокой энергии, целевой материал напрямую нагревается, внутренний целевой материал (чтобы избежать загрязнения тигля), испарение материалов с высокой температурой плавления (таких как вольфрам, молибден, оксид), тонкая пленка высокой чистоты, металлические контакты в полупроводниковом слое, электродном слое обычно используемой технологии.

Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытия на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, доступен проект под-ключ. Свяжитесь с нами сейчас, адрес электронной-почты: iks.pvd@foxmail.com