Процесс вакуумной очистки | Требования к процессу очистки вакуумной лакировочной машины

Процесс вакуумной очистки | требования к процессу очистки вакуумной окрасочной машины

Вакуумная очистка обычно определяется как процесс удаления нежелательного материала с поверхности заготовки или материала системы перед вакуумным процессом. Необходимо очистить поверхность вакуумных деталей, поскольку источник газа и пара, вызванный загрязнителями, заставит вакуумную систему не получить необходимую степень вакуума. Кроме того, из-за присутствия загрязняющих веществ вакуумные компоненты будут влиять на прочность соединения и эффективность уплотнения.

А. Вакуумная отопительная чистка

Поместите заготовку под нормальным давлением или вакуумным нагревом. Чтобы способствовать испарению летучих примесей на поверхности для достижения цели очистки, эффект очистки этого метода связан с давлением окружающей среды заготовки, продолжительностью времени удержания в вакууме, температурой нагрева, типами загрязняющих веществ и материалов заготовки. , Принцип состоит в том, чтобы нагреть заготовку. Усиливается десорбция молекул воды и различных углеводородных молекул, адсорбированных на поверхности. Степень усиления десорбции зависит от температуры. При сверхвысоком вакууме поверхность должна быть нагрета выше 450 градусов для очистки на атомном уровне. Нагревательный метод очистки особенно эффективен. Но иногда это лечение может иметь побочные эффекты. В результате нагревания некоторые углеводороды могут объединяться в более крупные агрегаты и одновременно разлагаться на углеродный шлак.

Б. УФ-очистка

Углеводороды на поверхности разлагаются под воздействием ультрафиолетового излучения. Например, воздействие воздуха на 15 часов может привести к образованию чистой стеклянной поверхности. Если должным образом предварительно очищенную поверхность помещают в ультрафиолетовый источник, который генерирует озон. Чистая поверхность (процесс очистки) может быть сформирована за несколько минут. Это говорит о том, что присутствие озона увеличивает скорость очистки. Механизм очистки заключается в следующем: при ультрафиолетовом облучении молекулы грязи стимулируются и диссоциируют, в то время как озон генерируется и существует для производства высокоактивного атомарного кислорода. Возбужденные молекулы грязи и свободные радикалы, образующиеся в результате диссоциации грязи, реагируют с атомарным кислородом. Формируют более простые, более летучие молекулы. Таких как H203, CO2 и N2. Скорость реакции увеличивается с увеличением температуры.

C. очистка разряда

Этот метод очистки широко используется при очистке и дегазации систем с высоким и сверхвысоким вакуумом. Особенно в вакуумном оборудовании для нанесения покрытий используется больше всего. Используйте горячий провод или электрод в качестве источника электронов. Газовая десорбция ионной бомбардировки и удаление некоторых углеводородов могут быть достигнуты путем приложения отрицательного давления смещения к очищаемой поверхности. Эффект очистки зависит от материала электрода, геометрии и отношения с поверхностью. Это зависит от количества ионов на площадь поверхности и энергии ионов. Это зависит от эффективной электрической мощности. Вакуумная камера заполнена инертным газом (обычно газообразным аргоном) соответствующего парциального давления. Цель очистки может быть достигнута ионной бомбардировкой от тлеющего разряда при низком давлении между двумя подходящими электродами. В методе. Инертный газ ионизируется и бомбардирует стенку вакуумной камеры, другие конструктивные элементы вакуумной камеры и подложку с покрытием, что может препятствовать прокаливанию определенных вакуумных систем при высокой температуре. Лучшая очистка некоторых углеводородов может быть достигнута, если в загруженный газ добавляется кислород. Кислород легко удаляется из вакуумной системы, поскольку он окисляет определенные углеводороды до летучего газа. Основными составляющими примесей на поверхности сосудов из нержавеющей стали высокого вакуума и сверхвысокого вакуума являются углерод и углеводороды. В целом, углерод не является летучим. После химической очистки необходимо ввести смесь газов Ar или Ar + O2 для очистки тлеющим разрядом, чтобы можно было удалить примеси на поверхности и газ, связанный с поверхностью в результате химического воздействия. В тлеющем разряде. Наиболее важными параметрами являются тип приложенного напряжения (переменного или постоянного тока), напряжение разряда, плотность тока, тип заполненного газа и давление. Наиболее важными параметрами являются тип приложенного напряжения (переменного или постоянного тока), напряжение разряда, плотность тока, тип заполненного газа и давление. Наиболее важными параметрами являются тип приложенного напряжения (переменного или постоянного тока), напряжение разряда, плотность тока, тип заполненного газа и давление. Продолжительность бомбардировки. Форма электрода, материал и положение очищаемых деталей

D. Промывка газом

1. Азотная промывка

Когда азот адсорбируется на поверхности материала, время адсорбции чрезвычайно мало из-за малой энергии адсорбции. Даже если он адсорбируется на стенке устройства, его легко удалить. Время накачки системы может быть значительно сокращено за счет использования этого свойства азота для промывки вакуумной системы. Например, перед тем, как вакуумный лакокрасочный станок помещают в атмосферу, сухой азот сначала заполняют в вакуумной камере, а затем заполняют в атмосферу, затем время откачки следующего цикла откачки может быть сокращено почти вдвое, причина в том, что энергия адсорбции азота намного меньше, чем у молекул водяного газа. После того, как азот заполнен в вакууме, молекулы азота сначала поглощаются стенкой вакуумной камеры. Поскольку сайт адсорбции зафиксирован, он сначала заполняется молекулами азота, а молекулы адсорбированной воды очень малы, что сокращает время экстракции. Если система загрязнена разбрызгиванием масла из насоса диффузора, загрязненную систему также можно очистить методом продувки азотом. Как правило, загрязнение масла может быть устранено путем нагрева системы при очистке системы азотом.

2. Промывка реакционного газа

Этот метод особенно подходит для внутренней очистки (удаления углеводородного загрязнения) больших систем из сверхвысокого вакуума из нержавеющей стали. Для вакуумной камеры и вакуумных компонентов некоторых крупномасштабных систем сверхвысокого вакуума стандартными методами устранения загрязнения поверхности являются химическая очистка, обжиг в вакуумной печи, очистка с тлеющим разрядом и оригинальная вакуумная система для выпечки энергии и т. Д., Чтобы получить чистую поверхность атомного состояния. Вышеуказанные методы очистки и дегазации часто используются до и во время установки вакуумной системы. После установки (или эксплуатации) вакуумной системы трудно разобрать различные детали вакуумной системы, поскольку они были зафиксированы. Как только система (случайно) загрязнена (в основном молекулами с большим атомным номером, такими как углеводороды), ее обычно разбирают, обрабатывают и затем снова устанавливают. Процесс с использованием реакционного газа может быть использован для оперативной дегазации на месте. Механизм очистки: окисляющий газ (O2, N0) и восстановительный газ (H2, N H3) включены в систему для химической очистки поверхности металла с целью устранения загрязнения с целью получения чистой поверхности металла в атомарном состоянии. Скорость окисления / восстановления поверхности зависит от состояния загрязнения и материала на поверхности металла. Скорость поверхностной реакции контролируется путем регулирования давления и температуры реакционного газа. Для каждого субстрата точные параметры определяются экспериментально. Эти параметры различны для разных кристаллических ориентаций.

Требования к процессу очистки вакуумной окрасочной машины

Вакуумный материал должен быть очищен перед вакуумным процессом для удаления загрязнений с поверхности заготовки или материала системы; Также очень необходимо очистить поверхность вакуумных деталей, потому что источник газа и пара, вызванный загрязнителями, не только сделает вакуумную систему не способной достичь требуемой степени вакуума. Кроме того, из-за присутствия загрязняющих веществ это также повлияет на прочность и герметичность соединения вакуумных деталей.

Загрязнители могут быть определены как «любое бесполезное вещество или энергия». По физическому состоянию загрязняющих веществ их можно разделить на твердые, газообразные и жидкие, которые существуют в виде пленки или рыхлых частиц. По своим химическим свойствам он может находиться в ионном или ковалентном состоянии, он может быть неорганическим или органическим.

Поверхности, подверженные воздействию воздуха, наиболее подвержены загрязнению. Есть много источников загрязнения. Адсорбция, химические реакции, процессы выщелачивания и сушки, механические процессы, а также процессы диффузии и сегрегации способствуют увеличению поверхностных загрязнений в различных компонентах.

По данным завода по обработке вакуумных покрытий, распространенные загрязняющие вещества на поверхности вакуумных материалов:

1. Смазка: смазочные материалы, смазочно-охлаждающие жидкости, вакуумная смазка и другие загрязненные при обработке, сборке и эксплуатации;

2, кислоты, щелочи, солевые вещества: остаточные вещества при очистке, пот рук, минеральные вещества в воде и т. Д .;

3. Поверхностные оксиды: поверхностные оксиды, образованные материалами, помещенными в воздух на длительное время или во влажный воздух;

4. Водная основа: пот рук во время работы, водяной пар во время продувки, слюна и т. Д .;

5, полировки остатков и пыли и других органических веществ в окружающем воздухе.

Целью очистки этих загрязняющих веществ является повышение устойчивости вакуумной лакировочной машины, чтобы работа могла быть более плавной. Согласно требованиям, очищаемую поверхность можно разделить на два типа: атомно-чистая поверхность и технологически чистая поверхность.

В вакуумной лакировочной машине перед использованием лакокрасочных материалов лакировочные материалы для выполнения простой очистки поверхности могут продлить срок службы лакировочной машины. Различные загрязнители не только делают вакуумную систему не способной получить необходимую степень вакуума, но также влияют на прочность и герметичность соединения вакуумных деталей. В начале работы по очистке на месте может уменьшить много неприятностей, чтобы избежать многих мелких проблем, эффективность работы, качество покрытия машины вакуумного покрытия играет очень позитивную роль. Это может значительно улучшить стабильность работы всех стенок и поверхностей других компонентов в вакуумной системе при различных условиях работы.

IKS PVD, если хотите, мы можем предложить подходящую для вас чистящую машину, для предварительной обработки покрытия PVD, любой вопрос о вакуумной технологии PVD, свяжитесь с нами сейчас, iks.pvd@ foxmail.com