Основной принцип магнетронного распыления
Mar 25, 2023| Основной принцип магнетронного распыления
Магнетронное распыление - это использование магнитного поля для связывания движения электронов, повышения скорости ионизации электронов. По сравнению с традиционным напылением оно имеет две основные характеристики: «низкая температура (увеличивается количество столкновений, энергия электронов постепенно уменьшается и падает на анод только после того, как энергия исчерпана)» и «высокая скорость (увеличение пути движения электронов, повышение скорости ионизации, ионизация большего количества ионов, бомбардирующих цель)».
Основной принцип увеличения скорости распыления с помощью магнитных полей был изобретен Пеннингом более 60 лет назад и позже развит Кеем и другими, что привело к разработке пистолетов для распыления и цилиндрических источников магнитного поля. Планарные магнетоструктуры были представлены Чапином в 1979 году.
Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытий на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для нанесения оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, доступен проект под ключ. Свяжитесь с нами сейчас, электронная почта: iks.pvd@foxmail.com