Источник питания для магнетронного распыления
Aug 01, 2024| Источник питания для магнетронного распыления
С точки зрения формы выходного сигнала, с развитием самой технологии магнетронного распыления, он испытал несколько способов постоянного тока, униполярный импульс, симметричный биполярный импульс (источник питания среднечастотного магнетронного распыления) и биполярный импульс (асимметричная мощность магнетронного распыления средней частоты). поставлять). В настоящее время новый источник питания для магнетронного распыления выполнен по технологии высокочастотного инверторного импульсного источника питания, а среднечастотный источник питания для магнетронного распыления стал предпочтительным источником питания для нового оборудования для магнетронного распыления. Для точного контроля толщины слоя пленки источник питания магнетронного распыления должен работать стабильно и иметь хорошие постоянные характеристики. В настоящее время в основном используется режим постоянного тока, есть также режим постоянной мощности, но режим постоянного напряжения используется редко. Кроме того, существенным преимуществом технологии нанесения покрытия магнетронным напылением является плотный слой пленки и хорошая отделка. Для достижения этого преимущества необходимо строго ограничивать количество раз подстрекания и энергию каждого подстрекания на поверхности мишени в процессе магнетронного распыления, а также минимизировать количество макроскопических частиц мишени, вызванных моментом подстрекания, что уменьшит плотность и отделка слоя пленки, что может серьезно привести к падению пленки
Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытия на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для нанесения оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, возможен проект под ключ. Свяжитесь с нами сейчас, адрес электронной почты: iks.pvd@foxmail.com