Обычная проблемная съемка пленки с магнитным напылением
May 12, 2018| Фильм серый и темный
1. Степень вакуума ниже 0,67 Па. Степень вакуума должна быть увеличена до 0,13-0,4 Па.
2. Чистота аргона составляет менее 99,9%. Plaese используют аргон с чистотой 99,99%.
3. Надувные системы утечки. Необходимо устранить систему инфляции для устранения утечек.
4. Грунтовка полностью не вылечена. Время отверждения грунтовки следует удлинить соответствующим образом.
5. Количество газа, выделяемого из покрытой части, слишком велико. Камера должна быть высушена и запечатана
Тусклый и тусклый
1. Время распыления слишком велико. Время должно быть сокращено соответствующим образом.
2. Скорость распыления и скорость формирования пленки слишком быстрая. Пожалуйста, правильно уменьшите ток или напряжение распыления.
Неравномерный цвет покрытия
1. Пленка слишком тонкая. Увеличьте скорость распыления или время распыления.
2. Иррациональная конструкция светильника. Конструкция светильника должна быть улучшена.
3. Геометрия подложки слишком сложна. Пожалуйста, соответствующим образом увеличьте скорость вращения подложки.
У пленки есть морщины или трещины
1. Скорость испарения слишком высокая. Он должен быть должным образом замедлен.
2. Пленка слишком толстая. Время распыления должно быть соответствующим образом сокращено.
3. Температура подложки слишком высокая. Сократите время нагрева подложки.
Поверхность пленки имеет водяные знаки, отпечатки пальцев и частицы сажи
1. После очистки субстрат недостаточно высушивается. Необходимо улучшить обработку перед нанесением покрытия.
2. Поверхность субстрата разбрызгивается водой или слюной. Операторы должны носить маски.
Плохая адгезия
1. Плохое обезжиривание деталей. Необходимо улучшить обработку перед нанесением покрытия.
2. Вакуумная камера не чистая. Вакуумная камера должна быть очищена. Обратите внимание, что во время загрузки и выгрузки целей строго запрещено использовать руки или другой нечистый объект, чтобы касаться источника магнетрона.
3. Прибор не чист. Крепление должно быть очищено.
4. Неправильное управление условиями процесса распыления. Пожалуйста, улучшите условия процесса распыления.