Характеристики PVD нанопокрытий
May 22, 2019| Характеристики PVD нанопокрытий
Существует три основных метода физического осаждения нанопокрытий из паровой фазы: вакуумное испарение, распыление и ионное осаждение. Вакуумное испарение заключается в испарении исходного материала в частицы (атомы или ионы) посредством нагрева электронным пучком, лазерного нагрева и т. Д., и затем нанесите их на поверхность заготовки, чтобы сформировать покрытие. Покрытие имеет относительно больше пор, которые имеют общую адгезию с подложкой. Покрытие распылением принимает заготовку в качестве анода, а мишень - в качестве катода. Ион аргона, генерируемый ионизацией аргона, используется для выдувания атомов-мишеней и осаждения их на поверхности заготовки. Покрытие имеет меньше пор и хорошо сочетается с подложкой. Ионное покрытие состоит в том, чтобы превратить материал в атомы испарением, распылением или химическими методами и ионизировать плазмой вокруг подложки. Под действием электрического поля покрытие образуется при полете на подложку с большей кинетической энергией. Покрытие является однородным и плотным, практически без пор и хорошо сочетается с подложкой.
Нанопленки из оксида титана получали методом магнетронного распыления постоянного тока. Давление в камере напыления составляло 1,3 10-4 Па, а затем заполняли Ar, O 2 и CF 4, общее давление составляло 1,3 Па (количество впрыска контролировалось во время распыления). Толщина пленки сквозь постоянное напряжение распыления (700 В), чтобы изменить его условия распыления управления, время контроля температуры пластины распыления в 100 ~ 400 ℃ . Электрохромные характеристики были обнаружены в LiC1O4 и пропиленкарбонате. Тем не менее, на поверхность пленки воздействуют газ и заряженные частицы, и на состояние пленки сильно влияет состояние плазмы, а состояние распыления нелегко строго контролировать, что также является его главным недостатком.
Чтобы еще больше улучшить качество нанопокрытия, были разработаны и разработаны различные передовые технологии PVD с использованием различных технологий. Различные методы магнетронного распыления были разработаны путем введения магнитного поля в технику распыления, в которой преобладает электрическое поле. Чтобы усилить химический процесс формирования пленки, реактивный газ был введен в процесс испарения, распыления и ионного осаждения, таким образом появились технология реактивного испарения, технология реактивного напыления и технология реактивного ионного осаждения. Кроме того, существуют импульсное лазерное осаждение (PLD), магнетронное распыление (MSPLD), ионизированное магнетронное распыление (ионизированное магнетронное распыление), молекулярно-лучевая эпитаксия (MBE), миграционный рост и другие новые мембранные технологии.
Можно видеть, что с развитием науки и техники, граница между сердечно-сосудистыми заболеваниями и PVD не ясна, и эти два проникают друг в друга, что делает две технологии подготовки покрытия более совершенными.
IKS PVD ， декоративная лакировочная машина ， лакировочная машина ， контакт: iks.pvd@foxmail.com
