Технология PVD четыре шага процесса
Apr 06, 2020| Технология PVD: четыре шага процесса: (1) очистка заготовки: включение источника постоянного тока, тлеющий разряд аргона в виде иона аргона, бомбардировка ионами аргона поверхности заготовки, выбрасывание поверхностных частиц и грязных частей заготовки; (2) газификация материала покрытия: то есть после подачи переменного тока испарение материала покрытия. (3) миграция ионов материала покрытия: после столкновения и высоковольтного электрического поля атомы, молекулы или ионы из источника газификации с большой скоростью устремляются к заготовке; (4) атомы, молекулы или ионы осажденного материала осаждаются на подложке: когда ионы испаряющегося материала на поверхности заготовки превышают количество разлитых ионов, они постепенно накапливаются, образуя слой покрытия, прочно приклеенного к поверхности заготовки. После ионизации частиц ионным покрытием испарительный материал имеет три тысячи с кинетической энергией пять тысяч электрон-вольт, высокоскоростные артефакты бомбардировки, не только скорость осаждения является быстрой, и способен проникать сквозь поверхность, образуя глубокий диффузионный слой матрицы Глубина диффузии поверхности ионного осаждения будет составлять от четырех до пяти микрон, то есть глубина диффузии обычного вакуумного покрытия глубоко в десятки раз, даже в сто раз, и так быстро прилипает друг к другу.
IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd manufacturer Производитель вакуумных лакировочных машин PVD из Китая, наш основной продукт: машины для нанесения декоративных покрытий, лакировочные машины, оптические лакировочные машины, PVD лакировочные линии. Более подробная информация, контакт: iks.pvd@foxmail. ком