Применение электронно-лучевого испарения

Применение электронно-лучевого испарения - подготовка пленки TiO 2 электронно-лучевым испарением

Принцип испарения электронным пучком для нанесения пленки TiO 2 с использованием автоматической оптической системы покрытия INTEGRITY-39 с испарением электронным пучком с помощью ионного пучка, как показано на рисунке ниже.

0010010 NBSP; 1. Вход охлаждающей воды; {{2}}. Выход охлаждающей воды; 3. Тигель; 4. Катушка луча; 5. Электронно-лучевой передатчик; 6. Лампа обогрева; 7. Рамка подложки; 8. Двигатель; 9. Мониторинг фильма; 1 0. Рабочее напряжение пробоотборной электронной пушки, изготовленной методом ионного покрытия, составляет 1 0 кВ, ток - {{2}} 00 А, а температура осаждения в вакуумной камере - 1 45. ~ 1 55 ℃. Черный гранулированный Ti 2 O 3 с чистотой 9 9. 99% был выбран для материала мембраны. Cc - 1 05 ионный пучок с холодным катодом использовали для вспомогательного осаждения. Во время осаждения вакуумная камера была заполнена O 2 с чистотой 9 9. 99% в качестве реакционного газа. Перед нанесением покрытия подложку очищают раствором стекла, ополаскивают деионизированным 0010010 вода высушена продувкой азотом. Затем подложку очищают ультразвуковой волной 99. 9% и безводным этанолом в течение 15 минут. После сушки специальной салфеткой она загружается в вакуумную камеру. Когда вакуум подается на {{5}}. 5 × 10-4pa с помощью механического насоса и диффузионного насоса, устанавливается автоматический процесс нанесения покрытия. Когда подложка нагревается до температуры осаждения 1 5 0 ℃, источник ионов начинает бомбардировать подложку, и энергия контролируется при {{5}} 0 ~ 9 0 эВ в течение 10 мин.

затем электронная пушка автоматически начинает нагревать и испарять материал пленки, и скорость осаждения составляет 0. 38 ~ 0. 42 нм / с. Когда пленка наносится до расчетной толщины 440 нм, программа автоматически закрывает электронную пушку, и нанесение покрытия завершается. После нанесения покрытия вакуумную камеру естественным образом охлаждали до комнатной температуры и образец отбирали. Спектральное испытание образца TiO 2 проводилось с помощью лямбда 900 (диапазон испытания 175 ~ 3 300 нм) спектрофотометра. Фактическая толщина, коэффициент экстинкции и показатель преломления пленки TiO 2 были рассчитаны с помощью программного пакета Macleod. Влияние различных степеней вакуума на качество формирования пленкиy, показатель преломления и коэффициент поглощения TiO 2 были изучены при различных потоках кислорода высокой чистоты в вакуумную камеру. Когда тонкая пленка TiO 2 осаждается путем испарения с помощью источника ионов при высоком уровне вакуума, изменение степени вакуума при прохождении кислорода указывается в следующей таблице. Поскольку молекулы кислорода в вакуумной камере ионизируются в ионы кислорода и полностью реагируют с молекулами паров Ti {{2}} O 3 , кислород теряется при разложении Ti {{{{4} }}} O 3 пополняется, и полученный TiO 2 в пленке является относительно чистым. Однако, если подача кислорода недостаточна или реакция между Ti {{2}} O 3 и O 2 недостаточна, пленка оксида титана с высокой абсорбцией tino {{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). С увеличением потока кислорода вероятность столкновения между молекулами паров TiO 2 и молекулами кислорода в процессе повышения испарения увеличивается, и энергия теряется, что уменьшает кинетическую энергию TiO 2 , осажденного на подложке поверхность и влияет на адгезию и уплотнение напыленной пленки. Для тонких оптических пленок вспомогательный источник ионов может увеличивать кинетическую энергию молекул на поверхности подложки, не только оказывает существенное влияние на показатель преломления пленки, но также может улучшать плотность пленки и влагостойкость, а также пленку адгезия к подложке также значительно улучшается.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com