Магнетронный источник питания с малой энергией
Высокомощные источники питания с маятниковым импульсным питанием с промежуточной частотой. ● Источником энергии магнетронного распыления с высокой мощностью MF можно эффективно и быстро реализовать функцию дугогашения, исходя из полного удовлетворения требований к мощности. И блок питания имеет идеальный дисплей ...
- Внедрение продукции
● Источником энергии магнетронного распыления с высокой мощностью MF можно эффективно и быстро реализовать функцию дугогашения, исходя из полного удовлетворения требований к мощности. И блок питания обладает прекрасными возможностями отображения и защиты под напряжением, перенапряжением, перегрузкой, перегревом и т. Д. Кроме того, он может распылять непроводящие мишени и увеличивать скорость ионизации для эффективного преодоления целевого отравления и аномального разряда.
● Блок питания использует передовую технологию высокочастотного инвертора и силовой модуль IGBT, чтобы уменьшить элемент хранения энергии на выходе, в результате слой покрытия чрезвычайно плотный и плавный.
● Используя микроконтроллер с сенсорным экраном, блок питания обладает высокой степенью интеграции и обладает простотой в работе. Отображение тока и напряжения очень четкое и интуитивно понятное.
● Технология подавления дуги PHP гарантирует, что пользователи смогут лучше контролировать качество слоя покрытия в процессе обработки поверхности. Кроме того, благодаря функциям стабилизации напряжения и идеальному перевороту, источник питания может эффективно подавлять искрение на поверхности заготовки и значительно улучшать выход продукции, а также поверхностную тонкость и пленочную адгезию покрытий.
● Источник питания предлагает три режима (постоянное напряжение, постоянный ток и постоянную мощность), из которых можно выбрать. По сравнению с традиционным режимом постоянного тока режим постоянной мощности может лучше обеспечить повторяемость процесса нанесения покрытия.
● Источник питания может связываться с главным компьютером через цифровые порты, такие как RS232, RS485, WIFI и т. Д., Что расширяет его функцию управления.
● Благодаря широкому диапазону выходной мощности и частоты, блок питания может удовлетворять потребностям различных процессов.
● Основные параметры могут регулироваться в широком диапазоне.
Спецификация
Модель продукта | EP80A125H |
Входная мощность и частота (В / Гц) Thre Phase и Four Wire | AC380 + N, |
| 60Гц | |
Диапазон выходного тока (A) | 0 ~ 80 |
Точность постоянного напряжения и постоянного тока | ≤1% |
1250 | |
Максимальная выходная мощность (кВт) | 100 |
Рабочий цикл (%) | 80 |
Вес (кг) | 80 |
Внешние размеры (MM) | 575 (D) × 480 (W) × 250 (H) |
Уровень изоляции | В |
Производительность (%) | 90 |
Класс защиты корпуса | IP21 |
Рабочий режим | Постоянное напряжение, постоянный ток и постоянные режимы питания являются дополнительными. Стандартный выход: постоянный ток |
Режим охлаждения | Водяное охлаждение |
Внешний интерфейс | Эта серия продуктов все принимает микроконтроллер с сенсорным экраном |
Сравнение производительности по сравнению с 30 кВт MF Magnetron Spottering Power Supply
Режим продукта | 30kw Средняя частота | EP125A80H |
Частота (кГц) | 40 | 40 |
Рабочий цикл (%) | 80 | 80 |
Напряжение (V) | 800 | 800 |
Ток (A) | 38 | 125 |
Максимальная мощность (кВт) | 30 | 100 |
Преимущества мощного источника магнетронного распыления MF EP125A80H
● Высокое использование пространства в печи
EP125A80H требует меньше промежуточных частотных целей и обеспечивает более высокую загрузку печи и лучшую производственную мощность.
● Отличная технология подавления дуги
EP125A80H использует технологию подавления дуги PHP, поэтому пользователи могут легко контролировать качество пленки в процессе обработки поверхности, чтобы улучшить структуру пленки.
Пользователи могут напрямую заменить существующий источник магнетронного напыления EP125A80H, и вместо замены катодных материалов и магнитных полей необходимо заменить систему охлаждения.
● Высокое отношение мощности к объему
Высокое соотношение мощности к объему упрощает интеграцию установки оборудования для пользователей.
заявка
Высокоэнергетический источник магнетронного распыления MF широко используется в плазме, физическом, химическом, медицинском и различных областях научных исследований, он может удовлетворять широкому спектру требований к процессу, особенно в оборудовании для вакуумного покрытия.
Вам также может понравиться
