различные виды CVD-оборудования

Существуют различные типы CVD-оборудования. В настоящее время PECVD является основной технологией, и ожидается, что ее доля на рынке в будущем будет увеличиваться. CVD, новая технология, разработанная в последние десятилетия для получения неорганических материалов, относится к процессу, в котором вещества в газообразном или парообразном состоянии реагируют на газовую фазу или на границе газ-твердое тело с образованием твердых отложений. Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) широко используется для очистки веществ, разработки новых кристаллов и осаждения всех видов монокристаллических, поликристаллических или стекловидных неорганических тонкопленочных материалов. Эти материалы могут быть оксидами, сульфидами, нитридами, карбидами или бинарными или многовариантными межэлементными соединениями групп III-V, II-IV и IV-VI, а их физические функции можно точно контролировать с помощью газофазных процессов легирования. Повторяемость покрытия CVD и ступенчатое покрытие являются хорошими и могут использоваться для SiO2, Si3N4, PSG, BPSG, TEOS и других средних пленок, а также для полупроводников, металлов (W), всех видов осаждения пленок из металлоорганических соединений. Существует много видов сердечно-сосудистых заболеваний, которые можно условно разделить на APCVD, LPCVD, SACVD, PECVD, MOCVD и другие категории в зависимости от давления в камере и внешней энергии. Оборудование CVD легко получить источники реакции, компоненты покрытия разнообразны, а оборудование относительно простое, особенно подходит для поверхности деталей сложной формы и покрытия внутренних отверстий.

Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытий на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для нанесения оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, доступен проект под ключ. Свяжитесь с нами сейчас, Электронная почта:iks.pvd@foxmail.com