Рассчитать рефракционный индекс и коэффициент вымирания пленки TiO2 на основе метода конверта

Для расчета рефракционного индекса и коэффициента вымирания пленки TiO2 на основе метода конверта коэффициент поглощения материала не должен быть слишком большим, иначе это повлияет на конечную передачу пленки и снизит оптическую производительность продукта; В то же время рефракционный индекс не должен быть слишком низким, иначе пострадает ширина полосы отсечения. Предложенный Манифатье в 1976 году, метод линии баолуо состоит в том, чтобы вычислить параметры оптической пленки слоя пленки путем инвертирования передока (или отражения) экстремального значения на оптической толщине слоя пленки до разношерстных кратных lambda / 4. В фактическом измерении максимальная точка T /2 и минимальная точка Передачи T /4 соединены с двумя линиями конверта, Tmax() и Tmin(). Затем крайности передачи T /2 и T /4 на любой длине волны получаются, взяв очки на линии конверта. Наконец, коэффициент вымирания и рефракционный индекс слойа пленки рассчитываются с помощью передатчика экстремального значения, а толщина слоя пленки рассчитывается в соответствии с расчетным значением рефракционного индекса и длиной волны экстремальной точки.

Процесс измерения метода прост, метод может одновременно измерять пленку рефракционный индекс, коэффициент вымирания и толщину процесса измерения не нужно контактировать с образцами пленки, защита образца, идеально сравнивая все виды методов результатов испытаний оборудования, если использовать правильно, может как способ обусловить пленку все оптические константы. Линейный рефракционный индекс n и толщина L пленки на длине волны рассчитываются с помощью метода конверта.

Где:

n0 и n1 являются рефракционным индексом воздуха и базы соответственно; Tmax и Tmin являются максимальной и минимальной передачей на длине волны; Lambda 1, lambda 2, и n (lambda 1), n (lambda 2) соответствуют длине волны и рефракционный индекс двух смежных пиков или долин кривой перешифровки, соответственно. Коэффициент рефракции и коэффициент вымирания пленки TiO2 были рассчитаны с помощью программного обеспечения Macleod. Как видно из рисунка (а) ниже, спектральный диапазон uv-видимый и ближнего инфракрасного, а рефракционный индекс всех 4 образцов уменьшается. Рефракционный индекс образца No1 в диапазоне 400 и 1000 нм составляет от 2,50 до 2,15. Рефракционный индекс образца No 2 и образца No 3 был несколько выше, в то время как индекс No4 был несколько ниже на той же длине волны, варьируясь от 2,45 до 2,15.

Из рисунка (b) выше видно, что образец No 1 имеет очевидное поглощение, а коэффициент вымирания увеличивается с спектральным диапазоном от уф-видимому до уф-видимому. Можно знать, что из-за недостаточного запаса кислорода производятся оксиды металла Ti по низким ценам. Максимальная передача выборки No 2 была значительно улучшена, а коэффициент вымирания был в основном ниже 2,5×10-3, которые все еще оказали влияние на окончательную передачу спектра. Коэффициенты вымирания спектров образца No 3 и образца No 4 находятся в порядке 10-4, а влияние на конечную передачу спектра в основном незначительно. No 1 и No 2 коэффициент вымирания образца с увеличением длины волны, два других основных не меняется с длиной волны коэффициент вымирания образца, при условии вакуумной степени, No 1 и No 2 образцов с увеличением длины волны и скорость передачи снижается, к содержанию кислорода слишком низка, есть металл Ti формируется , и коэффициент вымирания Ti является правильным является длина волны увеличивается.

В результате сравнения четырех образцов было установлено, что с увеличением потока кислорода, вакуумная степень покрытия уменьшилась, и преломление пленки TiO2 сначала увеличилось, а затем уменьшилось. За счет увеличения кислорода увеличение после ионов кислорода источника ионизации, увеличит плотность ионной бомбардировки пленки, сделать более плотный мембранный слой, тем самым улучшить пленку рефракционный индекс, когда количество заполнения кислорода для дальнейшего увеличения, однако, относительно низкая система вакуумного покрытия, избыточные молекулы кислорода и TiO2 мембраны молекулярного столкновения, снижение молекулярной кинетической энергии TiO2 , для того, чтобы осаждение Тонкой пленки TiO2 молекулярной миграции уменьшается, плотность мембранного слоя, еще больше уменьшилреный рефракционный индекс тонких пленок. Если меньше кислорода, а именно вакуумное покрытие система высока, а также причины из-за количества кислорода меньше, не может поставить Ti2O3, как ожидается, разлагаются в испарении потери содержания кислорода кислорода, причина покрытия состава пленки имеет низкий оксид, содержащий оксид титана, влияют на оптические свойства тонких пленок, так что выбор соответствующего потока кислорода для TiO2 оптической тонкой пленочной системы очень важно.

IKS-OPT2700 оптический E-пушечного вакуумного покрытия машины,более подробная информация,контакт: iks.pvd@foxmail.com