Принцип работы PECVD – пластина SINA P
Apr 18, 2024| ПЭЦВД Принцип работы - пластина SINA P
В системе SiNA используется метод непрямого химического осаждения из паровой фазы с усилением микроволновой плазмы.
Преимущества: Он имеет хорошую однородность пленки и возможность массового производства.
3. Пассивация H (водорода) в плазме на поверхности кремниевой пластины и диффузия атомов водорода SiN в кремний в процессе спекания, так что H (водород) пассивирует поверхность кремния и границы зерен в корпус, подвесные связи и другие дефекты, так что он больше не играет роль составного центра, за исключением комбинации нескольких носителей, улучшают срок службы неосновного носителя, тем самым улучшая качество кремниевой пластины и повышая эффективность. солнечного элемента.
Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытия на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, возможен проект под ключ. Свяжитесь с нами сейчас, адрес электронной почты: iks.pvd@foxmail.com