Классификация цели магнетронного катодного напыления
Jun 08, 2018| Магнетронная распыляющая мишень представляет собой механические детали для вакуумного покрытия, а также силовые электронные компоненты. С точки зрения использования целевого источника питания мы больше озабочены его электрическими характеристиками.
1. Согласно механической структуре
В соответствии с механической структурой и формой мишени магнетронная распыляющая мишень в основном делится на плоские (прямоугольные или круговые) магнетронные мишени, коаксиальные коэрцитивные магнетронные мишени, кольцевую коническую магнетронную мишень (S пушка) и несколько других.
2. Согласно плантарным целевым материалам
Плоская цель делится на плоскую прямоугольную магнетронную мишень, плоскую круговую магнетронную мишень и дуго-магнетронную двойную цельную композитную структуру.
3. Согласно магнитному полю
(1) Магнетронные мишени могут быть классифицированы на постоянные магниты и электромагниты в зависимости от режима пласта магнитного поля.
(2) В соответствии с разницей в расположении и распределении магнетронной мишени в вакуумной камере и различием в состоянии распределения магнитных полюсов и магнитных линий ее можно разделить на сбалансированное магнетронное распыление и несбалансированное магнетронное распыление (несбалансированное магнетронное распыление может заставить плазму отступить от поверхности мишени, чтобы улучшить качество слоя поверхностной пленки и эффект осаждения ионов большой площади профилированной заготовки.) Многоцелевая система небалансного магнетронного распыления с замкнутым магнитным полем может получать высокую скорость осаждения и более высокую качество тонкой пленки ,
(3) Несбалансированное магнитное поле магнетронной распыляющей мишени может быть получено не только путем изменения размера и силы внутренних и внешних постоянных магнитов, но также двух наборов электромагнитных катушек или с использованием смешанной структуры электромагнитных катушек и постоянного магнитов, а также добавить дополнительные соленоиды между катодом и подложкой для изменения магнитного поля между катодом и подложкой и контролировать отношение положительных ионов и атомов в осаждении для достижения наилучших результатов.