Характеристики технологии электронно-лучевой обработки

Характеристики технологии электронно-лучевой обработки

Электронный пучок может быть очень хорошо сфокусирован (до 1 ~ 0,1 м), поэтому он может быть подвергнут микрообработке.
Ассортимент обрабатываемых материалов широк. Может обрабатывать различные механические свойства проводниковых, полупроводниковых и непроводящих материалов.
Эффективность обработки очень высока.

Обработка в вакууме, меньше загрязнений, обработка поверхности не легко окисляется.
Электронно-лучевая обработка требует полного комплекта специального оборудования и вакуумной системы, цена дороже, поэтому производство ограничено в определенной степени.

Принцип обработки ионного пучка

В условиях вакуума ионный пучок, генерируемый источником ионов, ускоряется, фокусируется и проецируется на поверхность заготовки. Поскольку ион имеет положительный заряд, его массовое число в тысячи или даже десятки тысяч раз больше, чем у электрона, он обладает большой кинетической энергией удара при ударе по заготовке, благодаря микромеханическому воздействию, обеспечивающему обработку заготовки.

Принцип обработки ионного пучка и электронного пучка в основном одинаков. Основное отличие заключается в том, что ионы имеют положительный заряд. Их масса в тысячи или даже десятки тысяч раз больше электронов, поэтому они ускоряются в электрическом поле медленнее.

Электронно-лучевая обработка обрабатывается путем преобразования электрической энергии в тепловую энергию. Обработка ионного пучка обрабатывается путем преобразования электрической энергии в кинетическую энергию.

IKS PVD Электронно-лучевая машина для оптического покрытия ， IKS-OPT2700, Более подробная информация, добро пожаловать, свяжитесь с iks.pvd@foxmail.com