Перспектива применения технологии распыления импульса высокого ионизации (хипим)

Перспектива применения технологии распыления импульса высокого ионизации (HIPIMS)

Чтобы внести более плотные и высокопроизводительные декоративные пленки, необходимо искать более эффективные методы выписки в плазме. В последние годы, разработанная в последние годы, технология распыления импульса с высокой скоростью ионизации имеет характеристики высокой плотности плазмы, высокой скорости ионизации распыленного материала, высокого среднего числа ионов, высокой энергии ионов и большой доли пленочных ионов. Пленка, подготовленная с помощью технологии Hipims, имеет меньше дефектов, более плавную поверхность и более плотную поверхность, и имеет более высокую твердость, силу связывания, стойкость к износу и коррозионную стойкость. С постоянным улучшением этой технологии, ожидается, что она приведет к новому скачкам для распыления. Прежде всего, технология декоративного покрытия PVD в процессе нашего развития сталкивается со многими проблемами, но благодаря постоянному исследованию и инновациям также предоставляет возможности для дальнейшего улучшения технологий. В будущем, благодаря углубленному исследованию и решению этих проблем, технология декоративного покрытия PVD будет играть большую роль в большем количестве областей.

IKS PVD Company, Декоративная машина для покрытия, инструментальная машина для покрытия DLC, машина для оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD и проект Turn-ключа. Свяжитесь с нами сейчас, электронная почта: iks.pvd@foxmail.com