Процесс подготовки покрытия AF

Процесс подготовки покрытия AF
В настоящее время наиболее часто используемые фторированные материалы с кремниевой поверхностью состоят из двух функциональных групп: фторированных групп с низкой поверхностной энергией и поверхностных реакционных групп. Когда органический фторид касается поверхности вещества, поверхностная реакционная группа будет реагировать с соответствующими поверхностными функциональными группами, образуя химические связи, а затем образуя пленку. Самоограничивающийся органический фторид и осаждение являются основными реакционноспособными группами (основной состав - SiO2), гидроксильные группы на поверхности стекла (Si-OH) проводят реакцию конденсации, но на металлической поверхности мобильного телефона и без Si-OH, поэтому, если вы хотите использовать такой органический фторид на металле или другом материале, сначала необходимо нанести слой покрытия из SiO2, опять же с низкой поверхностной энергией органического фторида, как показано на рисунке ниже.
На рынке представлено много типов таблеток AF, и эффективность и дозировка разных типов таблеток AF, очевидно, различаются. Практическое применение также должно основываться на критериях тщательного отбора конечного потребителя.
АФ обычно испаряют двумя способами: в графитовом тигле и в выпарной лодочке.
Необходимо обращать внимание на положение бомбардировки электронного луча и контролировать ток луча. Обычно ток луча составляет около 50мА. Слишком большой ток луча или его неправильное положение легко вызовут термическое разложение АФ и приведут к выходу из строя покрытия. Кроме того, следует отметить следующие обстоятельства. A. Таблетки AF необходимо использовать сразу после распаковки. Разобрать в течение длительного времени помещенный препарат испарит отказ; Б. Толщина связующего слоя SiO2 должна составлять 15-20нм, и рекомендуется не слишком плотный, чтобы способствовать образованию фармакокимической связи АФ; C. Покрытие AF рекомендуется со скоростью 0,8 нм/с после связующего слоя. Для обеспечения полного эффекта AF может потребоваться соответствующее увеличение фактической толщины покрытия, которая не обязательно ограничивается эталонной толщиной 15–20 нм, указанной производителем. D. После формирования пленки выньте линзу и дайте ей постоять при комнатной температуре более 120 минут, чтобы пленка полностью состарилась.

Кроме того, твердость также является очень важным показателем пленки для мобильного телефона. Твердость и характеристики самого материала подложки имеют большую взаимосвязь. В общем, при условии того же технологического покрытия твердость поверхности более твердой подложки может быть выше результатов испытаний. Специальная отвердевающая жидкость на рынке может быть нанесена на поверхность подложки, модификация поверхности, улучшение твердости, обычно известная как пленка HC. В сочетании с AF измеренная твердость пленки может быть значительно улучшена.

Компания IKS PVD, машина для нанесения декоративного покрытия, машина для нанесения покрытий на инструменты, машина для нанесения покрытия DLC, машина для нанесения оптического покрытия, линия вакуумного покрытия PVD, доступен проект под ключ. Свяжитесь с нами сейчас, Электронная почта:iks.pvd@foxmail.com